ASML EUV 疑雲：美方話頂級光刻機可能入咗中國，ASML 否認

先分清件事

美國商務部長 Howard Lutnick 據 Bloomberg 報道，近排幾次會面向 ASML 高層提出憂慮：一部 EUV 極紫外光刻機可能已經去咗中國。ASML 回應得好硬，話從未向中國付運 EUV 機，亦冇付運任何專門用喺 EUV 嘅部件、模組或設備。到目前為止，商務部未公開證據，Bloomberg 同 ASML 似乎都未見到足以落錘嘅資料。呢單要寫成「美方懷疑、ASML 否認」，唔可以當已破案。

先分清三點：

• 已確認：ASML 否認曾向中國出貨 EUV 或專用部件。
• 未確認：美方所講證據未公開，商務部亦未正式交代。
• 影響位：EUV 卡住先進晶片產能，唔只係 ASML 一間公司嘅公關危機。

圖片：ASML

EUV 點解咁要命

ASML 呢種機器比普通生產線硬件複雜得多。光刻係將電路圖案逐層投射到晶圓上，線條越細，晶片越快、越慳電。ASML 官方資料講，NXE EUV 用 13.5nm 光源，支援 7nm、5nm、3nm node；新一代 NXE:3800E 直指 2nm 量產，High-NA EXE:5200B 進一步支援 sub-2nm。Apple A 系、M 系、Nvidia GPU 同其他先進晶片背後，EUV 係最關鍵嘅工具之一。

圖片：ASML

點解會牽動出口管制

敏感位喺中國多年都買唔到 ASML EUV。舊一代 DUV 仍然可以喺某啲牌照下賣畀中國客戶，但 EUV 一直係紅線。TechCrunch 引述 CEO Christophe Fouquet 早前講法，ASML 會追蹤每部已出貨機器，EUV 技術文件同 training 有內部 firewall，中國團隊唔可以接觸。呢啲講法唔等於幫 ASML 自動脫身，但解釋咗點解一部 EUV「走失」會係超大件事。

圖片：ASML

生意帳都講唔通

商業邏輯亦有一個好簡單嘅問題：ASML 為咗一單非法 EUV 交易，值唔值得賭晒荷蘭、美國出口牌照同全球客戶信任？官方 2025 年報講，2025 年總淨銷售額升到 327 億歐元，AI 帶動嘅先進 Logic 同 HBM／DDR5 需求係主要動力；ASML 2026 年 4 月又將全年收入預期上調到 360 至 400 億歐元。中國 DUV 生意有份量，但 EUV 壟斷地位更加值錢。

供應鏈樽頸

對晶片供應鏈嚟講，EUV 係一個極窄嘅樽頸。TSMC 可以幫 Nvidia、Apple 做先進製程，但要靠 ASML 裝機、維護、升級；ASML 又要靠 Zeiss 光學、Cymer 光源同一大堆供應商。呢個結構令 AI 算力唔只受 GPU 設計限制，亦受最上游設備交付速度限制。GPU 價錢、企業租 AI server 成本，最後都會畀呢條鏈影響，只係唔會喺價錢牌上寫明。

我點睇

而家最值得睇嘅係證據：美方有咩可公開材料、ASML 點樣回應、荷蘭牌照部門有冇跟進。中國自研 EUV 或做原型，一直有人報道；但可量產、可維護、可穩定跑先進 node 嘅 ASML EUV，係另一個級數。呢單新聞唔需要靠陰謀論先有價值，每一次出口管制升級，都會改寫晶圓廠買機節奏、先進晶片產能，同 AI 成本。

參考來源

• TechCrunch — The US says ASML’s top chip tool may be in China. ASML says it isn’t — original report
• US Tells ASML It’s Concerned China May Have Top Chip Tool — 美方憂慮嘅最初報道來源，涉及 Lutnick 同 ASML 會面。
• EUV lithography systems – Products | ASML — 官方產品頁，確認 EUV、NXE、EXE 系統定位同先進晶片用途。
• Lithography principles | ASML — 官方技術解釋，講清楚光刻點樣將圖案投射到晶圓。
• TWINSCAN NXE:3800E | ASML — 官方產品頁，確認 NXE:3800E 支援 2nm Logic node 同先進 DRAM。
• TWINSCAN EXE:5200B | ASML — 官方產品頁，確認 High-NA EUV、sub-2nm 定位同 8nm resolution。
• Financials | ASML 2025 Annual Report — 官方財務資料，確認 2025 年淨銷售額同 AI 需求背景。
• ASML Q1 2026 Financial Results — 官方最新 2026 全年收入指引。

本文根據原文及公開資料整理；資料有出入時，以原文及官方資料為準。