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#ASML
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Tech News12 吋光罩如何解開 High NA EUV 的 AI 大晶片瓶頸
台積電與 ASML 擬推動 12 吋光罩,目標是在 High NA EUV 曝光範圍縮小後,仍可一次印製大型 AI 資料中心晶片。關鍵不只在設備,還在整條光罩與晶圓廠供應鏈能否同步升級。
12 天前
Tech NewsASML EUV 疑雲:美方話頂級光刻機可能入咗中國,ASML 否認
美國商務部長 Lutnick 據報向 ASML 施壓,懷疑一部 EUV 光刻機可能去咗中國;ASML 回應話從未向中國付運 EUV 或專用部件。呢件事值得睇,因為 EUV 係 TSMC、Nvidia、Apple 先進晶片背後最硬嘅卡位。
3 個月前