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#國產晶片

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上海國企埃盛納據報開始低量生產浸沒式 DUV 光刻機，今年目標五部，首批會送往中芯、華虹同長鑫測試。不過「可以做 7nm，理論上做到 5nm」只係多重曝光路線嘅描述；冇產速、overlay、良率同晶圓結果，距離取代 ASML 仍然好遠。

中國據報開始生產國產 193nm 浸潤式 DUV，又有 Kimi K3 開放模型權重。兩件事都同科技自主有關，不過成熟程度差好遠：曝光機仍要過晶圓廠驗證，開放模型就已經可以畀晶片廠商、雲端平台同開發者着手適配。

Z.ai 據報建成 1GW 級 AI 數據中心，場內全用中國製晶片，亦有多個萬卡 cluster。不過 1GW 只講到供電規模，未等於設施已全速運作；晶片供應、HBM、互聯效率同軟件成熟度，先會決定佢實際交到幾多訓練算力。