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國產 DUV 光刻機傳今年生產五部：7nm／5nm 說法離量產仲有幾遠

上海國企埃盛納據報開始低量生產浸沒式 DUV 光刻機，今年目標五部，首批會送往中芯、華虹同長鑫測試。不過「可以做 7nm，理論上做到 5nm」只係多重曝光路線嘅描述；冇產速、overlay、良率同晶圓結果，距離取代 ASML 仍然好遠。