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#High NA EUV
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Tech News12 吋光罩如何解開 High NA EUV 的 AI 大晶片瓶頸
台積電與 ASML 擬推動 12 吋光罩，目標是在 High NA EUV 曝光範圍縮小後，仍可一次印製大型 AI 資料中心晶片。關鍵不只在設備，還在整條光罩與晶圓廠供應鏈能否同步升級。
12 天前
3C 產品Panther Lake 用 High NA EUV 量產，實際只涉及部分 18A 晶片層
Intel Foundry 已經用 ASML High NA EUV 生產部分 Panther Lake，範圍只限 18A 指定晶片層，仲保留 0.33 NA NXE 生產路徑。今次等 Intel 用出貨產品驗證新機台，同時為 14A 累積量產經驗。
2 個月前