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12 吋光罩如何解開 High NA EUV 的 AI 大晶片瓶頸

台積電與 ASML 擬推動 12 吋光罩，目標是在 High NA EUV 曝光範圍縮小後，仍可一次印製大型 AI 資料中心晶片。關鍵不只在設備，還在整條光罩與晶圓廠供應鏈能否同步升級。